STE RTP150 用于真空和受控气体环境的快速热处理系统

STE RTP150 用于真空和受控气体环境的快速热处理系统

应用领域:电子信息

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国家/地区

俄罗斯

行业领域

电子信息

简介

STE RTP150系统适用于在高达 1300°C 的温度下在不同类型的气氛中长时间处理半导体晶圆。主要优势:1.加热均匀度±2%;2.最大加热速率:-30°C/秒(石墨台)、-150°C/秒(石英台);3.较高的运行重现性;4.多阶段退火过程的编程。

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