研发磁控溅射（包括反应溅射）方法，在表面面积达103cm2的产品上，喷涂多组分和多层涂层技术。通过低能电子束，在工作室中产生致密等离子体，确保离子伴射喷涂过程，从而形成具有致密结构涂层并提高与基板的附着力。使用各种成分的溅射靶材，控制工件表面原子和离子通量密度与离子能量比率，可以制备基于各种不同金属、氮化物和氧化物的高功能涂层。六个平面磁控管可以在惰性气体和化学活性气体介质中，同时以重复脉冲模式（40kHz，12.5μs）喷涂涂层，包括介电涂层。为等离子体产生和离子伴射，研发了基于自热空心阴极气体放电的电子源，可产生电流达10A的宽光束 (100cm2)。电子束产生的等离子体离子能量和电流密度，相应控制在10–1000 eV、1–10 mA/cm2 范围内。研发了固体氧化物燃料电池集电器和结构钢耐大气腐蚀涂层的喷涂多层涂层方法。