磁流变抛光技术作为一种新型的光学表面加工方法，具有抛光效果好、不产生次表面损伤、适合复杂表面加工等传统抛光所不具备的优点，已发展成为一种革命性光学表面超精密加工方法。但采用磁流变抛光方法对平面工件进行加工时，“抛光缎带”与工件表面属于“斑点”局部接触，只能靠控制“斑点”沿工件表面按一定规律轨迹扫描才能实现整个表面的加工，轨迹扫描过程需要大量的时间，造成效率低、加工形状精度不易保证。 本项目通过动磁场发生装置驱动磁极同步转动实现磁极端面的静态磁力线转变为切向交互的动态磁场，促使磁流变抛光浆液形成的抛光垫实时动态再分布而调节抛光垫的性能及磨料的半固着状态，促使抛光垫性能的稳定和磨料更新，由多点磁流变效应微磨头规律排布构成磨料弥散分布的大面积柔性抛光垫与加工表面均匀全接触，实现对平面工件的恒压力均匀抛光，提高超大直径光学元件抛光效率和抛光面型精度。项目研究过程中先后研制出了动态磁场单点磁流变抛光装置和多磁极集群动态磁场集群磁流变抛光装置，通过磁场仿真、加工试验、在线测力和理论分析等手段进行了动态磁场特性研究、磁流变组分优化研究以及加工工艺优化研究，形成了基于动态磁场磨料自锐的柔性抛光基本理论。