主要xq_first是如何利用改变高分子链的结构来提升紫外正性光刻胶的化学稳定性、抗腐蚀性、抗高温等特性。目前我们研发的紫外正性光刻胶已正式投产，经用户反馈本产品的基本特性已经达到国际标准，一些重要特性甚至更高于xq_other产品标准。主要生产障碍是目前生产设备无法还没有完全达到智能化生产和生产线的产量无法满足国内市场的供应需求，需要进一步优化生产设备和扩大生产规模。 利用改变高分子链的结构来提升新型紫外正性光刻胶的主要性能是我们的主要研究方向。争取国内知名院校支持，引进国内外高端专业人才来企进行进一步创新发展，在巩固“紫外正性光刻胶”系列产品成果的前提下，每年给科技人员下达课题，积极开发同系列前沿新产品，为祖国的半导体行业的发展添砖加瓦，缩短与发达国家的差距。