中方将成立中国—上海合作组织能源、绿色产业、数字经济三大合作平台，以及科技创新、高等教育、职业技术教育三大合作中心。
——2025年9月1日习近平在“上海合作组织+”会议上的讲话
中方将成立中国—上海合作组织能源、绿色产业、数字经济三大合作平台，以及科技创新、高等教育、职业技术教育三大合作中心。
——2025年9月1日习近平在“上海合作组织+”会议上的讲话
快速纯化多种生物分子，如蛋白质、多糖、肽类、寡核苷酸、核苷酸疫苗、病毒及天然小分子（TCM）等，适合分离纯化活性物质。其自动化的配置尤其适合方法优化和工艺开发。 1) 简单迅速启动：预编应用工艺，编程模板，自动缓冲液制备。 2) 全自动操作：从进样、编程、分离、峰收集、准确结果比较、数据处理以至打印报告皆自动化。 3) 标配多种自动化配置：自动选择缓冲液、自动选择样品、自动选择柱位、自动选择收集位置和收集方式，便于方法优化和工艺开发。 4) 人工智能：多种缓冲液配方（内置17种配方，可自行添加），一百多根
1. 整体控温，室温~80℃，精度0.1℃。 2. 光散射检测器光源波长670nm；检测角度：7度+90度。 3. 示差检测器测量范围：5x10-4RIU；噪音：2x10-9RIU。 4. 粘度检测器灵敏度:2.0 x 10-5增比粘度；噪音最大值: 0.7 millivolts，典型噪音小于0.5 millivolts。
STEICP200D系统基于STEICP200平台，旨在进行密集型研发和批量生产。该平台实现了电感耦合等离子体中电介质（SiNx，SiO2等）。具有优化气体分配系统的现代化小体积反应器显著提高了晶片处理的均匀性和再现性，并减少了预泵送时间。易于访问所有系统组件，便于日常维护。
基于STE ICP200平台的STE RIE200系统，适用于使用氯和氟化学的RIE工艺。该平台实现了半导体、电介质和金属膜的受控RIE的所有现代功能。主要优势：1.蚀刻/沉积均匀度为晶圆的±2%；2.优化的供气系统；3.按配方进行工艺流程；4.安装“穿过墙壁”；5.自动晶片装载；6.盒式晶片装载能力
STE RTA100系统专为在惰性气氛中对半导体晶圆进行短时间退火而设计，温度高达 1000°C。该系统广泛用于基于 A3B5 半导体化合物的电子设备生产线中的欧姆接触退火。主要优势：1.加热均匀度±2%；2.最大加热速率：-30°C/秒（石墨台）、-150°C/秒（石英台）；3.较高的运行重现性；4.多阶段退火过程的编程。
STE RTP150系统适用于在高达 1300°C 的温度下在不同类型的气氛中长时间处理半导体晶圆。主要优势：1.加热均匀度±2%；2.最大加热速率：-30°C/秒（石墨台）、-150°C/秒（石英台）；3.较高的运行重现性；4.多阶段退火过程的编程。
